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產(chǎn)品中心材料樣品處理小型蒸鍍儀KT-Z1650CVD小型高溫蒸鍍儀鈣鈦礦蒸鍍
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小型高溫蒸鍍儀鈣鈦礦蒸鍍，觸摸屏控制，可調(diào)節(jié)功率和蒸鍍時(shí)間，配有樣品擋板能精確控制鍍膜時(shí)間，保護(hù)樣品
| 品牌 | 鄭科探 | 產(chǎn)地類別 | 國(guó)產(chǎn) |
|---|---|---|---|
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 綜合 |
小型高溫蒸鍍儀鈣鈦礦蒸鍍，小型蒸鍍儀 鄭州科探KT-Z1650CVD，臺(tái)式設(shè)計(jì)、軟件自動(dòng)操控、高性價(jià)比，非常適合實(shí)驗(yàn)室科研使用。
通過(guò)加熱蒸發(fā)某種物質(zhì)使其沉積在固體表面，稱為熱蒸發(fā)鍍膜，熱蒸發(fā)鍍膜技術(shù)是歷史最悠久的PVD鍍膜技術(shù)之一。熱蒸發(fā)鍍膜機(jī)一般主要用于蒸發(fā)Cd、Pb、Ag、Al、Cu、Cr、Au、Ni等材料。
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原樣品沒有鍍膜 
115A 100秒 機(jī)械泵
115A 100秒 分子泵抽12分鐘 
115A 120秒 分子泵抽20分鐘
真空度越高 越不易氧化 越接近金屬本色
小型高溫蒸鍍儀鈣鈦礦蒸鍍KT-Z1650CVD
控制方式 | 7寸人機(jī)界面 手動(dòng) 自動(dòng)模式切換控制 |
加熱方式 | 數(shù)字式功率調(diào)整器 |
鍍膜功能 | 0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序 |
最大功率 | ≤1200W |
最大輸出電壓電流 | 電壓≤12V 電流≤120A |
真空度 | 機(jī)械泵 ≤5Pa（5分鐘） 分子泵≤10^-3Pa |
擋板類型 | 電控 |
真空腔室 | 不銹鋼腔體φ160mm x 160mm |
樣品臺(tái) | 可旋轉(zhuǎn)φ62 （最大可安裝φ50基底） |
樣品臺(tái)轉(zhuǎn)速 | 8轉(zhuǎn)/分鐘 |
樣品蒸發(fā)源調(diào)節(jié)距離 | 70-140mm |
蒸發(fā)溫度調(diào)節(jié) | ≤1800℃ |
支持蒸發(fā)坩堝類型 | 鎢絲藍(lán) 帶坩堝鎢絲藍(lán) 鎢舟 碳繩 |
預(yù)留真空接口 | KF25抽氣口 KF16真空計(jì)接口 KF16放氣口 6mm卡套進(jìn)氣口 |
可選配擴(kuò)展 | 機(jī)械真空泵（可抽真空 5分鐘＜5Pa） 數(shù)顯真空計(jì)（測(cè)量范圍大氣壓到0.1Pa） 分子泵機(jī)組（可抽真空20分鐘≤5x10-3Pa） |
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